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CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉積設備
緊湊型側式真空氣相沉積設備

LPMS CVD05

緊湊型側式真空氣相沉積設備

  • 直徑0.5米不銹鋼真空反應罐,堅固耐用,鍍膜速度快。

  • 機臺一體式設計,結構緊湊,占地小。

  • 真空管路采用不銹鋼連節,方便維護及保養。

  • 側開式門設計便于取放產品與腔體清潔等維護作業。

  • 反應罐內置轉盤機構使產品在鍍膜過程中勻速旋轉,鍍層更均勻。

  • 使用數位LED真空計顯示工作狀況時的真空度。

  • 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式。

  • 紅外線加熱圈,加溫速度快。

  • 采用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。

  • 定時加熱、超溫報警和自動停止加熱等保護功能

  • 自診功能和各種故障報警。

  • 選配遠程控制和手機APP功能。



標簽:   派瑞林Parylene

運用范圍

 真空氣相沉積設備是一種用于電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質氣體經過升華、熱解后進入放置產品的真空反應室,借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100um厚度均勻,無應力、優異的電絕緣性和防護性防潮、防霉、防腐、防鹽霧薄膜涂層。

廣泛應用于:航空、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物等領域產品的防水封裝與保護工藝中。

  



產品規格

設備總尺寸 ( 寬度 , 深度 , 高度 )

1170 mm x 1860 mm x 1970mm

反應罐體內尺寸

?500 mm x 600 mm

反應罐罐口尺寸

454 mm x 600 mm

輸入電壓

三相380 VAC / 50 Hz

設備最大功率

15 Kw

溫控分區

6

分解爐溫控范圍

室溫至700℃

升華爐溫控范圍

室溫到150℃

原料門溫控范圍

室溫到250℃

制冷壓縮機功率

1000 W

制冷量

887 W

最低制冷溫度

-90℃

真空泵型號

2RH 030C

真空泵抽氣速率

30 m3

最大真空壓力

5 Pa

真空泵電機功率

1.1 KW (三相380VAC)

真空泵電機轉速

1420 R/Min

控制系統

10 ”人機界面,PLC 控制

遠程控制和APP

選配



標簽:   派瑞林Parylene
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